Rechercher

Sur ce site

Partenaires

Partenaires

Logo tutelle
Logo tutelle
Logo tutelle
Logo tutelle
Logo tutelle

Accueil du site > Productions Scientifiques > Publications > A comparative investigation of the damage build-up in GaN and Si during rare earth ion implantation

A comparative investigation of the damage build-up in GaN and Si during rare earth ion implantation

par Chantal Brassy - 7 mars 2008

Gloux F., Ruterana P., Lorenz K., Alves E.

Physica Status Solidi A-Applications And Materials Science 205 (2008) 68-70

doi : 10.1002/pssa.200776708

Dans la même rubrique :