Environnement expérimental :
- Environnement UHV (10⁻⁹ mbar), ensemble des éléments in-situ


Responsable scientifique
Stéphane Guillous
MEB : Faisceaux d’électrons focalisés
Spécifications techniques
Colonne de type ECLIPSE+ (Tescan France)
- Energie 500eV - 25keV
- Résolution jusqu’à 10nm
- Intensité sur cible jusqu’à 100nA
- Distance de travail de 23mm
- Faisceau continu ou pulsé (20ns, max. 1MHz)
Applications
- Microscopie électronique (électrons secondaires)
- Compensation de charges
- Cathodoluminescence (CL)
MEB : Faisceaux d’ions focalisés
Spécifications techniques
Source d’ions de type ECR (Nanogan)
- Mono et multichargés (ex : Ar8+, Bi18+)
- Production de l’hydrogène au bismuth à partir de gaz, four (1400°C) et cibles de pulvérisation
- Energie des faisceaux de 1,5 à 30qkeV (q étant la charge de l’ion, soit environ 600keV max. pour les plus lourds)
- Faisceaux séparés et sélectionnés par filtre de Wien
- Faisceaux mélangés avec même rapport masse/charge possibles (Multi-FIB)
Colonne Ionique EVOL de type COBRA-FIB (Tescan France)
- Résolution jusqu’à 25nm en imagerie
- Résolution 100nm en mode spot
- Intensité sur cible jusqu’à 500nA
- Flux max 1017ions/cm2/s
- Distance de travail de 12mm
- Faisceau continu ou pulsé (<2ns, max. 1MHz)
- Implantation d’ion unique
Applications
- Implantation ionique (Implanting)
- Micro- et nano-usinage (Milling)
- Modifications structurales (Swelling)
- Créations de structures creuses (Hollowing)
- Microscopies de contrastes (électrons secondaires et ions rétrodiffusés)
- Analyses par faisceaux d’ions (IBA)
- Ionoluminescence (IL)
Faisceaux lasers
Spécifications techniques
- 3 longueurs d’ondes disponibles : 405, 532 et 638nm
- Faisceaux continus
- Puissances max de 120mW (405nm) et 200mW
- Résolution sur cible de 2 - 5µm
- Focalisation par miroir métallique ½ parabolique
- Temps d’exposition programmable
Applications
- Micro Photoluminescence (µPL)
- Recuit thermique
- Contrôle de diffusion
- Activation de centres colorés
SPM : Microscopies en champ proche (analyse de surface)
Spécifications techniques
Tête LiteScope UHV (Nenovision)
- Scanners piézo XY 80µm x 80µm (rés. 2nm), z 15µm (rés. 100pm)
- Macromoteurs piézo pour pointe position 11mm x 21 mm (rés. 1µm)
- Modes tapping et contact
- Microscopies corrélatives avec FIB, MEB et µPL
- Enregistrements multicanaux simultanément
- Modes mécaniques (topographie, élasticité, adhésion et friction)
- Mode électromécanique (domaines piézoélectriques)
- Modes électriques (conductivité, potentiels de surface, électrostatisme)
- Mode magnétique
Applications
- Topographie (AFM)
- Conductivité/résistivité (conductive-AFM)
- Magnétisme (MFM)
- Courant tunnel (STM)
- Potentiel de surface (KPFM)
- Piézoélectricité (PFM)
Spectroscopies
Spécifications techniques
Spectromètre de luminescence : type SPARC-ATM (DELMIC)
- Type Czerny-Turner
- Plage de longueur d’onde 200nm – 1000nm
- Résolution spectrale jusqu’à 0.09nm
- Pilotage scanners FIB, MEB et SPM
- Imagerie hyperspectrale
- Cameras UV et VIS/NIR à haute efficacité quantique
- Photo multiplicateur
- Miroir ½ parabolique métallique pour collection et focalisation laser
- Cartouches de filtres motorisés
Applications
- Temps de vol d’ions rétrodiffusés (TOF-L/MEIS)
- Temps de vol d’ions secondaires (TOF-SIMS)
- Photons induits par interaction He-He (FIBIP)
- Luminescence hyperspectrale
- Implantation ionique déterministe assistée par temps de vol (TOF-SII)
- Courant-Tension (I-V)
- Force-distance (F-z)
